Deskrizzjoni tal-Prodotti
Nitride tas-silikonFilms irqaq għandhom struttura densa, saħħa għolja u reżistenza tajba għall-ilbies, u jistgħu jintużaw bħala komponenti strutturali f'apparat MEMS. Il-modulus taż-żgħażagħ u l-ebusija tal-films tan-nitruri tas-silikon ġew ittestjati bil-metodu PECVD, u ġew analizzati l-effetti tat-temperatura tad-deposizzjoni u l-proporzjon tal-fluss tal-gass ta 'reazzjoni fuq il-modulus taż-żgħażagħ u l-ebusija tal-films. Il-film tan-nitruri tas-silikon intuża bħala raġġ ta 'sospensjoni biex jipproduċi swiċċijiet MEMS RF.
Parametri tal-Prodotti
| Grad | N | Si | Ca min | O min | C min | Al Min | Fe min |
| Si3n 485-99 | 32-39 | 55-60 | 0.25 | 1.5 | 0.3 | 0.25 | 0.25 |
Stampa ta 'Kooperazzjoni ta' Prodotti

1.Nitride tas-silikonIċ-ċeramika hija ċeramika strutturali ta 'temperatura għolja u ta' saħħa għolja bi prospetti ta 'żvilupp wiesgħa. Għandu prestazzjoni għolja (bħal saħħa għolja, stabbiltà tajba ta 'xokk termali, ebusija għolja ta' għeja, saħħa flexural għolja fit-temperatura tal-kamra, reżistenza għall-ilbies, reżistenza għall-ossidazzjoni, reżistenza għall-korrużjoni, eċċ.), U ntuża ħafna fil-qasam tal-ħajja kollha. Il-metodi ta 'preparazzjoni ta' nitride tas-silikon jinkludu prinċipalment sinterizzazzjoni ta 'reazzjoni (RS), sinterizzazzjoni ta' pressjoni sħuna (HPS), sinterizzazzjoni ta 'pressjoni atmosferika (PLS) u sinterizzazzjoni ta' pressjoni pnewmatika (GPS). Fil-preżent, il-problema ewlenija hija li l-prodotti taċ-ċeramika tas-silikon tan-nitruri għandhom ebusija baxxa u spiża għolja. Fil-futur, huwa meħtieġ li jitjiebu l-proċessi tat-tħin, l-iffurmar u s-sinterizzazzjoni u t-taħlit ta 'nitruri tas-silikon u karbur tas-silikon biex jiġu żviluppati ċeramika tan-nitruri tas-silikon aħjar.
It-tags Popolari: Nitride tas-silikon tal-metall ta 'livell għoli, kina manifatturi ta' nitride tas-silikon tal-metall b'livell għoli, fornituri, fabbrika

